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檢測儀器和測量測量技術(shù)的發(fā)展方向

日期:2024-09-19 20:24
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摘要: 檢測儀器和測量測量技術(shù)的發(fā)展方向 測量技術(shù)與儀器涉及所有物理量的測量,對于材料、工程科學、能源科學關(guān)系密切。目前的發(fā)展趨勢有以下幾點: (1)以自然基準溯源和傳遞,同時在不同量程實現(xiàn)國際比對。如果自己沒有能力比對就要依靠其它國家。 (2)高精度。目前半導體工藝的典型線寬為0.25μm,并正向0.18μm過渡,2009年的預測線寬是0.07μm。如果定位要求占線寬的1/3,那么就要求10nm量級的精度,而且晶片尺寸還在增大,達到300mm。這就意味著測量定位系統(tǒng)的精度要優(yōu)于3×10的-8次方,相應(yīng)的激光穩(wěn)...

檢測儀器和測量測量技術(shù)的發(fā)展方向

測量技術(shù)與儀器涉及所有物理量的測量,對于材料、工程科學、能源科學關(guān)系密切。目前的發(fā)展趨勢有以下幾點:
 (1)以自然基準溯源和傳遞,同時在不同量程實現(xiàn)國際比對。如果自己沒有能力比對就要依靠其它國家。
 (2)高精度。目前半導體工藝的典型線寬為0.25μm,并正向0.18μm過渡,2009年的預測線寬是0.07μm。如果定位要求占線寬的1/3,那么就要求10nm量級的精度,而且晶片尺寸還在增大,達到300mm。這就意味著測量定位系統(tǒng)的精度要優(yōu)于3×10的-8次方,相應(yīng)的激光穩(wěn)頻精度應(yīng)該是10的-9次方數(shù)量級。
 (3)高速度。目前加工機械的速度已經(jīng)提高到1m/sec以上,上世紀80年代以前開發(fā)研制的儀器已不適應(yīng)市場的需求。例如惠普公司的干涉儀市場大部分被英國Renishaw所占領(lǐng),其原因是后者的速度達到了1m/sec。
 (4)高靈敏,高分辨,小型化。如將光譜儀集成到一塊電路板上。
 (5)標準化。通訊接口過去常用GPIB、RS232,目前有可能成為替代物的高性能標準是USB、IEEE1394和VXI?,F(xiàn)在,技術(shù)**者設(shè)法控制技術(shù)標準,參與標準制訂是儀器開發(fā)的基礎(chǔ)研究工作之一。
 我國儀器科技的發(fā)展現(xiàn)狀
 (1)由于長期習慣于仿制國外產(chǎn)品,我國的儀器儀表工業(yè)缺乏**能力,跟不上科學研究和工程建設(shè)的需要。
 (2)我國儀器科學與技術(shù)研究領(lǐng)域積累了大量科研成果,許多成果處于國際**水平,有待篩雪提高和轉(zhuǎn)化,但產(chǎn)業(yè)化程度很低,沒有形成具有國際競爭力的完整產(chǎn)業(yè)。
 未來發(fā)展趨勢
 1.發(fā)展方向與學科前沿
 (1)配合數(shù)控設(shè)備的技術(shù)**(如主軸速度,精度創(chuàng)成)
 數(shù)控設(shè)備的主要誤差來源可分為幾何誤差(共有21項)和熱誤差。對于重復出現(xiàn)的系統(tǒng)誤差,可采用軟件修正;對于隨機誤差較大的情況,要采用實時修正方法。對于熱誤差,一般要通過溫度測量進行修正。我國機床行業(yè)市場萎縮同時又大量進口國外設(shè)備的原因之一就是因為這方面的技術(shù)沒有得到推廣應(yīng)用。為此,需要高速多通道激光干涉儀:其測量速度達60m/min以上,采樣速度達5000次/sec以上,以適應(yīng)熱誤差和幾何誤差測量的需要??諝庹凵渎蕦崟r測量應(yīng)達到2×10的-7次方水平,其測量結(jié)果和長度測量結(jié)果可同步輸入計算機。
 (2)運行和制造過程的監(jiān)控和在線檢測技術(shù)
 綜合運用圖像、頻譜、光譜、光纖以及其它光與物質(zhì)相互作用原理的傳感器具有非接觸、高靈敏度、高柔性、應(yīng)用范圍廣的優(yōu)點。在這個領(lǐng)域綜合**的天地十分廣闊,如振動、粗糙度、污染物、含水量、加工尺寸及相互位置等的測量。
 (3)配合信息產(chǎn)業(yè)和生產(chǎn)科學的技術(shù)**
 為了在開放環(huán)境下求得生存空間,沒有自主**技術(shù)是沒有出路的。因此應(yīng)該根據(jù)有**權(quán)、有技術(shù)含量、有市場等原則選擇一些項目予以支持。根據(jù)當前發(fā)展現(xiàn)狀,信息、生命醫(yī)學、環(huán)保、農(nóng)業(yè)等領(lǐng)域需要的產(chǎn)品應(yīng)給予優(yōu)先支持。如醫(yī)學中介入**的精密儀器設(shè)備、電子工業(yè)中的超分辨率光刻和清潔方法、機理研究等。
 2.優(yōu)先領(lǐng)域
 在基礎(chǔ)研究的初期,對于能否有突破性進展是很難預測的。但是,當已經(jīng)取得突破性進展時,則需要有一個轉(zhuǎn)化機制以進入市暢

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