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磁性和渦流方法涂鍍層測(cè)厚儀的原理
日期：2024-09-20 07:26
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摘要：磁性和渦流方法涂鍍層測(cè)厚儀的原理
渦流法（非磁性金屬集體上非導(dǎo)電覆蓋層厚度測(cè)量）
1.標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 4957─1985，本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用渦流儀器無(wú)損測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層厚度的方法，該方法適用于測(cè)量大多數(shù)陽(yáng)極氧化覆蓋層的厚度，但不適用于測(cè)量所有薄的轉(zhuǎn)化膜。
2.測(cè)量原理：渦流測(cè)厚儀的測(cè)厚裝置所產(chǎn)生的高頻電磁場(chǎng)，使置于測(cè)頭下面的導(dǎo)體產(chǎn)生渦流，其振幅和相位是導(dǎo)體與側(cè)頭之間的非導(dǎo)電覆蓋層厚度的函數(shù)。
磁性法（磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測(cè)量）
1.標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 4956─1985，本標(biāo)...
磁性和渦流方法涂鍍層測(cè)厚儀的原理
1.標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 4957─1985，本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用渦流儀器無(wú)損測(cè)量非磁性金屬基體上非導(dǎo)電覆蓋層厚度的方法，該方法適用于測(cè)量大多數(shù)陽(yáng)極氧化覆蓋層的厚度，但不適用于測(cè)量所有薄的轉(zhuǎn)化膜。
2.測(cè)量原理：渦流測(cè)厚儀的測(cè)厚裝置所產(chǎn)生的高頻電磁場(chǎng)，使置于測(cè)頭下面的導(dǎo)體產(chǎn)生渦流，其振幅和相位是導(dǎo)體與側(cè)頭之間的非導(dǎo)電覆蓋層厚度的函數(shù)。
磁性法（磁性金屬基體上非磁性覆蓋層厚度測(cè)量）
1.標(biāo)準(zhǔn)：GB/T 4956─1985，本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了使用磁性測(cè)厚儀器無(wú)損測(cè)量磁性金屬基體上非磁性（包括釉瓷和搪瓷）覆蓋層厚度的方法，該方法適用于平試驗(yàn)上的測(cè)量，不適用于非磁性基體上覆蓋層的測(cè)量。
2.測(cè)量原理：磁性測(cè)厚儀是測(cè)量長(zhǎng)久磁鐵（側(cè)頭）和基體金屬之間由于存在覆蓋層而引起磁引力的變化，或者是測(cè)量通過(guò)覆蓋層與基體金屬磁路磁助的變化。
